光阻，称为光阻剂，是一个用在许多任务业制程上的光敏材料。像是光刻技术，可以在材料表面刻上一个图案的被覆层。
　　光阻有两种，正向光阻(positive photoresist)和负向光阻(negative photoresist)正向光阻是光阻的一种，其照到光的部分会溶于光阻显影液，而没有照到光的部份不会溶于光阻显影液。
　　负向光阻是光阻的一种，其照到光的部分不会溶于光阻显影液，而没有照到光的部份会溶于光阻显影液。
　　正型光阻剂及负型光阻剂主要是应用在LED芯片制造的金属电极蒸镀Lift-off制程中，由于LED电极所使用的金属材料不易经由蚀刻的方式制作电路图形，所以利用拔起（Lift-off）微影制程，得到突起的（Overhang）光阻图形，使金属在蒸镀过程中不会连续性满布在光阻剂上，再用去光阻剂的方式将未遭金属布盖的光阻部份拔起，完成金属电极的图案。 
　　半导体制程常用的正型光阻剂，在光学曝光方式下，光阻剂上层接受能量较下层光阻高，使得正型光阻剂成像大部份图形为上窄下宽，无法经一次曝光方式即得到Overhang的图形，而负型光阻剂的成像恰好与正型光阻剂图像相反，所以负型光阻剂是lift-off制程的佳选择。